Dry Cleaning of Si and SiO2 Surfaces Using SiC14 System

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dry Cleaning of Si and SiO2 Surfaces Using SiC14 System

著者

和文:	杉野林志, 奥井芳子, 滋野真弓, 大久保聡, 高崎金剛, 伊藤隆司.
英文:	Rinshi Sugino, Yoshiko Okui, Mayumi Shigeno, Satoshi Ohkubo, Kanetake Takasaki, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. Int. Symp. on Semicon. Manufacturing

巻, 号, ページ

pp. 262-265

出版年月

1995年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Proc. Int. Symp. on Semicon. Manufacturing

開催地

和文:
英文:	Austin