Dry Cleaning Technologies Using UV-Excited Radicals and Cryogenic Aerosols

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dry Cleaning Technologies Using UV-Excited Radicals and Cryogenic Aerosols

著者

和文:	伊藤隆司, 杉野林志.
英文:	Takashi Ito, Rinji Sugino.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. Fourth Int. Symp. on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces

巻, 号, ページ

pp. 219-224

出版年月

1998年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Proc. Fourth Int. Symp. on Ultra Clean Processing of Silicon Surfaces

開催地

和文:
英文:	Ostend