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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Removal of Surface Oxide Layer from Silicon Nanocrystals by Hydrogen Fluoride Vapor Etching 
著者
和文: 中峯 嘉文, 小寺 哲夫, 内田 建, 小田 俊理.  
英文: Y. Nakamine, T. Kodera, K. Uchida, S. Oda.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 50    No. 115002    4pages
出版年月 2011年 
出版者
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会議名称
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開催地
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