Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Characterization of Sidewall Damage Induced by Reactive Ion-Beam Etching 
著者
和文: 松谷晃宏, 小山二三夫, 伊賀健一.  
英文: Akihiro Matsutani, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 31    No. 5A    pp. 1541-1544
出版年月 1992年5月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/JJAP.31.1541

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.