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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Mass Effect of Etching Gases in Vertical and Smooth Dry Etching of InP 
著者
和文: 松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫, 伊賀健一.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 40    No. 3A    pp. 1528-1529
出版年月 2001年3月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/jjap.40.1528

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