Measurement of Plasma Density for Control of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of InP

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Measurement of Plasma Density for Control of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of InP

著者

和文:	松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫, 伊賀健一.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA, Kenichi Iga.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 41 No. 5A pp. 3147-3148

出版年月

2002年5月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI