In situ Observation of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of GaAs and InP using Long Distance Microscope

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	In situ Observation of Etching Profile in Inductively Coupled Plasma Etching of GaAs and InP using Long Distance Microscope

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 42 No. 2A pp. 426-427

出版年月

2003年2月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI