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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Low-Temperature Dry Etching of InP by Inductively Coupled Plasma Using HI/Cl2 
著者
和文: 松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 42    No. 12A    pp. L1414-L1415
出版年月 2003年12月 
出版者
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会議名称
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開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/jjap.42.l1414

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