Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Generation of Solid-Source H2O Plasma and Its Application to Dry Etching of CaF2 
著者
和文: 松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, FUMIO KOYAMA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Jpn. J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 47    No. 6    pp. 5113-5115
出版年月 2008年6月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 
DOI https://doi.org/10.1143/JJAP.47.5113

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.