Dual Mode Patterning of Fluorine-Containing Block Copolymers through Combined Top-down and Bottom-up Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dual Mode Patterning of Fluorine-Containing Block Copolymers through Combined Top-down and Bottom-up Lithography

著者

和文:	前田利菜, 早川晃鏡, Christopher Ober.
英文:	Rina Maeda, Teruaki Hayakawa, Christopher Ober.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Chemistry of Materials

巻, 号, ページ

Vol. 24 No. 8 pp. 1454-1461

出版年月

2012年3月5日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI