Crystallographic Study on Self-Annealing of Electroplated Copper at Room Temperature

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Crystallographic Study on Self-Annealing of Electroplated Copper at Room Temperature

著者

和文:	品田絵理, 名越貴志, TSO-FU MARK CHANG, 曽根正人.
英文:	Eri Shinada, Takashi Nagoshi, Tso-Fu Mark Chang, Masato Sone.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Materials Science in Semiconductor Processing.

巻, 号, ページ

Vol. 16 pp. 633-639

出版年月

2013年4月20日

出版者

和文:
英文:	Elsevier

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: