Comparative study of CeO2 gate dielectrics using chemical vapor deposition and atomic layer deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Comparative study of CeO2 gate dielectrics using chemical vapor deposition and atomic layer deposition

著者

和文:	幸田みゆき, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 岩井洋, 安田哲二.
英文:	Miyuki Kouda, Kuniyuki KAKUSHIMA, パールハットアヘメト, HIROSHI IWAI, 安田哲二.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2012年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:	IEEE EDS MQ WIMNACT 32 C0-sponsored by EDS Japan Chapter and TIT

開催地

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