Cl2/Xe誘導結合型プラズマ(ICP）によるInPの垂直平滑ドライエッチング

論文・著書情報

タイトル

和文:	Cl2/Xe誘導結合型プラズマ(ICP）によるInPの垂直平滑ドライエッチング
英文:	Vertical and smooth dry etching of InP by inductively coupled plasma (ICP) using Cl2/Xe

著者

和文:	松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫, 伊賀健一.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama, Kenichi Iga.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

28p-ZC-7

出版年月

1999年3月

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第46回春季応用物理学会
英文:	The 46th Spring Meeting of The Japan Society of Applied Physics and Related Societies

開催地

和文:	千葉
英文:	Chiba