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論文・著書情報


タイトル
和文:Krガスを用いた積層シリサイド化スパッタプロセスにより形成したNiSi2の薄膜評価 
英文: 
著者
和文: 今村浩章, 稲村太一, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.  
英文: Hiroaki Imamura, Taichi Inamura, Kuniyuki KAKUSHIMA, 片岡好則, 西山彰, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2013年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第74回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:京都 
英文: 

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