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論文・著書情報


タイトル
和文:分子線エピタキシー法によるCu2O薄膜の作製 
英文: 
著者
和文: 大嶋拓実, 野原正也, 保科拓也, 武田博明, 鶴見敬章.  
英文: Takumi Oshima, Masaya Nohara, Takuya Hoshina, Hiroaki Takeda, takaaki tsurumi.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2012年10月27日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第32回エレクトロセラミックス研究討論会 
英文: 
開催地
和文:東京 
英文: 

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