Dependence on Vibrational Quantum Number of H2 Rotational Temperature of a Low-Pressure Microwave Discharge Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dependence on Vibrational Quantum Number of H2 Rotational Temperature of a Low-Pressure Microwave Discharge Plasma

著者

和文:	赤塚洋, 清水良浩, 根津篤, 松浦治明.
英文:	Hiroshi Akatsuka, Yoshihiro Shimizu, Atsushi Nezu, Haruaki Matsuura.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The Conf. Proc. 8th International Conference on Reactive Plasmas/31st Symposium on Plasma Processing

巻, 号, ページ

出版年月

2014年2月3日

出版者

和文:	公益社団法人応用物理学会
英文:	Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:	8th International Conference on Reactive Plasmas/31st Symposium on Plasma Processing

開催地

和文:	福岡
英文:	Fukuoka

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