新プロセスによる金属(CoSi<sub>2</sub>)/絶縁体(CaF<sub>2</sub>)トンネルホットエレクトロン共鳴トランジスタの作製

論文・著書情報

タイトル

和文:	新プロセスによる金属(CoSi₂)/絶縁体(CaF₂)トンネルホットエレクトロン共鳴トランジスタの作製
英文:	Fabrication of metal(CoSi₂)/insulator(CaF₂) tunneling hot electron resonant transistor using new process

著者

和文:	河野義史, 末益崇, 鈴木信弘, 渡辺正裕, 浅田雅洋.
英文:	Y. Kohno, T. Suemasu, N. Suzuki, M. Watanabe, M. Asada.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

30p-S-15 3 1230

出版年月

1994年3月30日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第41回応用物理学会関係連合講演会
英文:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

開催地

和文:	神奈川県
英文:	Kanagawa