パルスレーザ堆積法を用いたTiH<sub>2</sub>薄膜の作製

論文・著書情報

タイトル

和文:	パルスレーザ堆積法を用いたTiH₂薄膜の作製
英文:

著者

和文:	鈴木崇之, 土嶺信男, 大島孝仁, 吉松公平, 大友明.
英文:	T. Suzuki, N. Tsuchimine, K. Yoshimatsu, T. Oshima, A. Ohtomo.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年3月18日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第61回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 61st JSAP Spring Meeting 2014

開催地

和文:	相模原市
英文:	Sagamihara

公式リンク

アブストラクト

TiH₂は水素吸蔵合金として研究されてきたが、単結晶合成や物性に関する知見がほとんどない。PLDを用いてアルゴン雰囲気中比較的低温でTiH₂焼結体からエピタキシャル薄膜を得ることに成功した。RHEED強度振動が観測され、室温から極低温まで金属伝導を示すことが分かった。