Metal(CoSi<sub>2</sub>)/insulator(CaF<sub>2</sub>) hot electron transistor fabricated by electron-beam lithography on a Si substrate

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Metal(CoSi₂)/insulator(CaF₂) hot electron transistor fabricated by electron-beam lithography on a Si substrate

著者

和文:	渡辺正裕, W. Saitoh, T. Suemasu, Y. Kohno, 浅田雅洋.
英文:	MASAHIRO WATANABE, W. Saitoh, T. Suemasu, Y. Kohno, M. Asada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys

巻, 号, ページ

Vol. 34 No. 10A pp. 1254-1256

出版年月

1995年10月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: