Reduction of the resistivities of Ni Silicide formed by the reaction of Si nanowire and Ni thin films

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英文:	Reduction of the resistivities of Ni Silicide formed by the reaction of Si nanowire and Ni thin films

著者

言語

English

掲載誌/書名

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出版年月

2014年

出版者

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会議名称

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英文:	J. Song, K. Matsumoto, K. Kakushima, Y. Kataoka, A. Nishiyama, N. Sugii, H. Wakabayashi, K. Tsutsui, K. Natori, H. Iwai, “Reduction of the resistivities of Ni Silicide formed by the reaction of Si nanowire and Ni thin films”, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, February 7, 2014, Suzukake Hall, Suzukakedai Campus, Tokyo Institute of Technology, Japan

開催地

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