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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Schottky barrier height reduction process for silicide/Si interfaces 
著者
和文: 伊藤勇磨, 堀隼人, 筒井一生, 角嶋邦之, 若林整, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 岩井洋.  
英文: Yuuma Itou, Hayato Hori, KAZUO TSUTSUI, Kuniyuki KAKUSHIMA, Hitoshi Wakabayashi, Yoshinori Kataoka, Akira Nishiyama, Nobuyuki Sugii, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2014年 
出版者
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会議名称
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英文:The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39 
開催地
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