立体Si構造における局所的な界面準位密度の抽出

論文・著書情報

タイトル

和文:	立体Si構造における局所的な界面準位密度の抽出
英文:

著者

和文:	小路智也, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.
英文:	Tomoya Shoji, Kuniyuki KAKUSHIMA, Yoshinori Kataoka, Akira Nishiyama, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2014年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―（第19回研究会）
英文:

開催地

和文:
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