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論文・著書情報


タイトル
和文:Si(110),(111)基盤上で熱処理による界面反応で形成したLa-silicateゲート絶縁膜の物理的理解に関する研究 
英文: 
著者
和文: 関拓也, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋.  
英文: 関拓也, Kuniyuki KAKUSHIMA, Yoshinori Kataoka, Akira Nishiyama, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
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巻, 号, ページ        
出版年月 2014年 
出版者
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会議名称
和文:第61回応用物理学会春季学術講演会 
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開催地
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