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論文・著書情報


タイトル
和文:クリーンルーム中の有機物質のウェハ表面吸着機構 
英文:Adsorption Mechanisms of Organic Compounds on Si Wafer Surfaces in Cleanroom Air 
著者
和文: 鍵直樹, 藤井修二, 湯浅和博.  
英文: Naoki Kagi, 藤井修二, 湯浅和博.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:日本建築学会計画系論文集 
英文:Journal of Archit. Plann. Environ. Eng. 
巻, 号, ページ Vol. 516    No. 516    pp. 47-51
出版年月 1999年 
出版者
和文:社団法人 日本建築学会 
英文:ARCHITECTURAL INSTITUTE OF JAPAN 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
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英文: 
DOI https://doi.org/10.3130/aija.64.47_1

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