A New Intensity Based Edge Placement Error Optimization Algorithm for Optical Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A New Intensity Based Edge Placement Error Optimization Algorithm for Optical Lithography

著者

和文:	AWAD Ahmed, 高橋篤司, 田中聡, 児玉親亮.
英文:	Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	第27回回路とシステムワークショップ論文集
英文:	Proc. the 27th Workshop on Circuits and Systems

巻, 号, ページ

pp. 422-427

出版年月

2014年8月5日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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