A Process Variability Band Area Reduction Algorithm For Optical Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A Process Variability Band Area Reduction Algorithm For Optical Lithography

著者

和文:	AWAD Ahmed, 高橋篤司, 田中聡, 児玉親亮.
英文:	Ahmed Awad, Atsushi Takahashi, Satoshi Tanaka, Chikaaki Kodama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会 2014年ソサイエティ大会講演論文集 (A-3-6)
英文:	Proc. the 2014 IEICE Society Conference (A-3-6)

巻, 号, ページ

Vol. A p. 50

出版年月

2014年9月23日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

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