NiOバッファ層を用いたワイドギャップ半導性β-Ga2O3エピタキシャル薄膜の低温PLD成長

論文・著書情報

タイトル

和文:	NiOバッファ層を用いたワイドギャップ半導性β-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の低温PLD成長
英文:	Low-temperature epitaxy of β-Ga₂O₃ thin film by PLD using NiO buffer layer

著者

和文:	松田晃史, 福田大二, 塩尻大士, 土嶺信男, 金子智, 吉本護.
英文:	Akifumi Matsuda, Daiji Fukuda, daishi shiojiri, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会 2015年年会講演予稿集
英文:	Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan, 2015, Abstracts

巻, 号, ページ

出版年月

2015年3月6日

出版者

和文:	公益社団法人日本セラミックス協会
英文:	The Ceramic Society of Japan

会議名称

和文:	日本セラミックス協会 2015年年会
英文:	The Ceramic Society of Japan, Annual Meeting 2015

開催地

和文:	岡山
英文:	Okayama

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