Contribution of oxygen vacancies to the ferroelectric behavior of Hf0.5Zr0.5O2 thin films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Contribution of oxygen vacancies to the ferroelectric behavior of Hf0.5Zr0.5O2 thin films

著者

和文:	清水荘雄, 横内達彦, Takahiro Oikawa, 白石貴久, 木口賢紀, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Alexei Gruverman, 舟窪浩.
英文:	Takao Shimizu, Tatsuhiko Yokouchi, Takahiro Oikawa, Takahisa Shiraishi, Takanori Kiguchi, Akihiro Akama, Toyohiko J. Konno, Alexei Gruverman, Hiroshi Funakubo.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Appl. Phys. Lett.

巻, 号, ページ

Vol. 106 pp. 112904-1-5

出版年月

2015年3月18日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI