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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Yield-aware mask assignment by positive semidefinite relaxation in triple patterning using cut process 
著者
和文: 小平 行秀, Chikaaki Kodama, 松井 知己, 高橋 篤司, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.  
英文: Yukihide Kohira, Chikaaki Kodama, Tomomi Matsui, Atsushi Takahashi, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) 
巻, 号, ページ Vol. 15    No. 2    pp. 1-7
出版年月 2016年3月 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 
ファイル
DOI http://dx.doi.org/10.1117/1.JMM.15.2.021207

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