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論文・著書情報


タイトル
和文:ガス加熱トライオードプラズマCVD法による低温成長a-Si:Hの高品質化 
英文: 
著者
和文: 新倉 ちさと, Sichanugrist Porponth, 宮島 晋介, 市川 幸美, 小長井 誠.  
英文: 新倉 ちさと, Sichanugrist Porponth, Shinsuke Miyajima, 市川 幸美, MAKOTO KONAGAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2016年3月19日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第63回応用物理学会春季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:東京 
英文: 

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