Chlorine -based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Chlorine -based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask

著者

和文:	松谷晃宏, 石割文崇, 庄子良晃, 梶谷孝, 上原卓也, 中川勝, 福島孝典.
英文:	Akihiro Matsutani, Fumitaka Ishiwari, Yoshiaki Shoji, Takashi Kajitani, Takuya Uehara, Masaru Nakagawa, Takanori Fukushima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

vol. 55 06GL01

出版年月

2016年5月10日

出版者

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会議名称

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開催地

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