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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A Lithographic Mask Manufacturability and Pattern Fidelity Aware OPC Algorithm 
著者
和文: AWAD Ahmed, 高橋 篤司.  
英文: Ahmed Awad, Atsushi Takahashi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. International Symposium on VLSI Design, Automation and Test (VLSI-DAT 2016) 
巻, 号, ページ         pp. 1-4
出版年月 2016年4月19日 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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公式リンク http://ieeexplore.ieee.org/document/7482576/
 
DOI https://doi.org/10.1109/VLSI-DAT.2016.7482576

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