Influence of shield roughness on Mo/Si defect density for extreme ultraviolet lithography mask blanks

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Influence of shield roughness on Mo/Si defect density for extreme ultraviolet lithography mask blanks

著者

和文:	Junichi Kageyama, 吉本護, 松田晃史, Vibhu Jindal, Patrick Kearney, Frank Goodwin.
英文:	Junichi Kageyama, Mamoru Yoshimoto, Akifumi Matsuda, Vibhu Jindal, Patrick Kearney, Frank Goodwin.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Vac. Sci. Technol. B

巻, 号, ページ

Vol. 31 pp. 041603-1–5

出版年月

2013年7月13日

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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DOI