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論文・著書情報


タイトル
和文:電子ビーム蒸着と高圧水蒸気熱処理によるアモルファスシリコン薄膜の消光係数の低減 
英文:Reduction of The Extinction Coefficient of Amorphous Silicon Thin Film by Electron Beam Deposition and High-Pressure H2O Vapor Heat Treatment 
著者
和文: 山下雄也, 清水大雅, 鮫島俊之.  
英文: Yuya YAMASHITA, Hiromasa SHIMIZU, Toshiyuki SAMESHIMA.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 27-28
出版年月 2016年3月3日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第3回集積光デバイスと応用技術研究会 
英文: 
開催地
和文:三島 
英文:Mishima 
公式リンク http://www.ieice.org/~ipd/jpn/welcome.html
 

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