Fabrication of Ni/Al2O3/Ni Heteroepitaxial Junction by Post Hydrogen Reduction of NiO/Al2O3/NiO Tri-layered Epitaxial Thin Film

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fabrication of Ni/Al2O3/Ni Heteroepitaxial Junction by Post Hydrogen Reduction of NiO/Al2O3/NiO Tri-layered Epitaxial Thin Film

著者

和文:	Ryosuke Yamauchi, Keisuke Kobayashi, Toshimasa Suzuki, Kohji Koyama, 松田晃史, Hideki Arai, Yushi Kato, Masahiko Mitsuhashi, 金子智, 吉本護.
英文:	Ryosuke Yamauchi, Keisuke Kobayashi, Toshimasa Suzuki, Kohji Koyama, Akifumi Matsuda, Hideki Arai, Yushi Kato, Masahiko Mitsuhashi, Satoru Kaneko, Mamoru Yoshimoto.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 50 pp. 098004-1-098004-2

出版年月

2011年9月20日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

公式リンク

DOI