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論文・著書情報


タイトル
和文:i-a-Si:H/c-Siヘテロ接合へのCu2O:Nスパッタ製膜の影響 
英文: 
著者
和文: 竹井 雄太郎, 滝口 雄貴, 中田 和吉, 宮島 晋介.  
英文: Yuutarou Takei, Yuki Takiguchi, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ         16a-A24-7
出版年月 2016年9月13日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第77回 応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:新潟県新潟市 
英文: 

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