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論文・著書情報


タイトル
和文:水素終端シリコン表面における原子細線の構造緩和 
英文: 
著者
和文: 一杉太郎, 橋詰 富博.  
英文: Taro Hitosugi, 橋詰 富博.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:日本物理学会誌 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 58        pp. 688-692
出版年月 2003年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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