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論文・著書情報


タイトル
和文:Si基板上への斜方晶エピタキシャルHfO2基薄膜の作製 
英文: 
著者
和文: 片山 きりは, 清水 荘雄, 木口 賢紀, 赤間 章裕, 今野 豊彦, 内田 寛, 坂田 修身, 舟窪 浩.  
英文: Kiriha Katayama, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, 赤間 章裕, Toyohiko Konno, Hiroshi Uchida, Osami Sakata, HIROSHI FUNAKUBO.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2015年9月13日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第76回応用物理学会秋季学術講演会 
英文: 
開催地
和文:名古屋市 
英文: 

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