PLD 法による正方晶(Bi,,K)TiO3 エピタキシャル膜作製と圧電特性評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	PLD 法による正方晶(Bi,,K)TiO3 エピタキシャル膜作製と圧電特性評価
英文:

著者

和文:	根本祐一, 一ノ瀬大地, 清水荘雄, 内田寛, 舟窪浩.
英文:	Yuichi Nemoto, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, HIROSHI FUNAKUBO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2016年1月7日

出版者

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会議名称

和文:	第54回セラミックス基礎科学討論会
英文:

開催地

和文:	佐賀市
英文:

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