固相成長法を用いた強誘電体HfO2 基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価

論文・著書情報

タイトル

和文:	固相成長法を用いた強誘電体HfO2 基薄膜のエピタキシャル成長と特性評価
英文:

著者

和文:	三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 舟窪浩, 内田寛, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦.
英文:	Takanori Mimura, Kiriha Katayama, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO, Hiroshi Uchida, Takanori Kiguchi, 赤間章裕, Toyohiko Konno.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2016年1月7日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第54回セラミックス基礎科学討論会
英文:

開催地

和文:	佐賀市
英文: