ホウ素添加したHfSi2の酸化挙動

論文・著書情報

タイトル

和文:	ホウ素添加したHfSi2の酸化挙動
英文:	Oxidation Behavior of HfSi2 with Boron Addition

著者

和文:	津之浦徹, 大久保陽介, 吉田克己, 矢野豊彦, 小笠原俊夫, 青木卓哉.
英文:	Toru Tsunoura, Yosuke Okubo, Katsumi Yoshida, Toyohiko Yano, Toshio Ogasawara, Takuya Aoki.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

# 2C34

出版年月

2015年3月19日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会2015年年会
英文:	Annual Meeting of The Ceramic Society of Japan, 2015

開催地

和文:	岡山
英文:	Okayama