Self-Aligned Formation of Sub-1-nm-Gaps Utilizing Electromigration during Metal Deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Self-Aligned Formation of Sub-1-nm-Gaps Utilizing Electromigration during Metal Deposition

著者

和文:	Yasuhisa Naitoh, Tatsuhiko Ohata, 松下龍二, Eri Okawa, Masayo Horikawa, Makiko Oyama, Masakazu Mukaida, Dong F Scott Wang, 木口学, 塚越一仁, Takao Ishida.
英文:	Yasuhisa Naitoh, Tatsuhiko Ohata, Ryuji Matsushita, Eri Okawa, Masayo Horikawa, Makiko Oyama, Masakazu Mukaida, Dong F Scott Wang, Manabu Kiguchi, Kazuhito Tsukagoshi, Takao Ishida.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ACS Appl. Mater. Interfaces

巻, 号, ページ

Vol. 5 24 pp. 12869–12875

出版年月

2013年10月26日

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
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DOI