対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製におけるRF電力の影響

論文・著書情報

タイトル

和文:	対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製におけるRF電力の影響
英文:	Influence of RF power on the properties of i-a-Si:H passivation layer deposited by facing target sputtering method

著者

和文:	白取優大, ファリスアキラビンモハマドズルキフリ, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Bin Mohd Zulkifly Faris Akira, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
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巻, 号, ページ

出版年月

2017年3月14日

出版者

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会議名称

和文:	第64回応用物理学会春季学術講演会
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開催地

和文:	横浜
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