Analysis of Spin Accumulation in a Si Channel Using CoFe/MgO/Si Spin Injectors

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Analysis of Spin Accumulation in a Si Channel Using CoFe/MgO/Si Spin Injectors

著者

和文:	悪七泰樹, 北形大樹, 周藤悠介, 菅原聡.
英文:	T. Akushichi, D. Kitagata, Y. Shuto, S. Sugahara.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

P-15

出版年月

2017年2月28日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Electron Device Technology and Manufacturing Conference

開催地

和文:
英文:	Toyama