English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Fabrication and characterization of sputtered Cu2O:N/c-Si heterojunction diode
著者
和文:
滝口 雄貴
, Yutaro Takei,
中田 和吉
,
宮島 晋介
.
英文:
Yuki Takiguchi
, Yutaro Takei,
Kazuyoshi Nakada
,
Shinsuke Miyajima
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Applied Physics Letters
巻, 号, ページ
Vol. 111 No. 9 093501-1 - 093501-4
出版年月
2017年8月28日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
公式リンク
http://aip.scitation.org/doi/full/10.1063/1.4986084
DOI
https://doi.org/10.1063/1.4986084
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.