電気化学製膜Cu2O薄膜への製膜後熱処理の効果(8a-A202-1)

論文・著書情報

タイトル

和文:	電気化学製膜Cu2O薄膜への製膜後熱処理の効果(8a-A202-1)
英文:	Effect of post-deposition annealing on electrochemically deposited Cu2O thin-films(8a-A202-1)

著者

和文:	滝口雄貴, 折坂葵, 宮島晋介.
英文:	Yuki Takiguchi, AOI Orisaka, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年9月5日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第78回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

開催地

和文:	福岡
英文:	Fukuoka