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論文・著書情報


タイトル
和文:電気化学製膜Cu2OへのClドーピングの効果(8a-A202-2) 
英文:Effect of Cl doping on electrochemically deposited Cu2O thin films(8a-A202-2) 
著者
和文: 折坂 葵, 滝口 雄貴, 宮島 晋介.  
英文: Aoi Orisaka, Yuki Takiguchi, Shinsuke Miyajima.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2017年9月5日 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第78回応用物理学会秋季学術講演会 
英文:The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017 
開催地
和文:福岡 
英文:Fukuoka 

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