(講演奨励賞受賞記念講演(招待)) 対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製における基板温度の影響(5a-A204-11)

論文・著書情報

タイトル

和文:	(講演奨励賞受賞記念講演(招待)) 対向ターゲットスパッタ法によるi-a-Si:Hパッシベーション膜作製における基板温度の影響(5a-A204-11)
英文:	(JSAP Young Scientist Award Speech) Influence of substrate temperature on the properties of i-a-Si:H passivation layer deposited by facing target sputtering(5a-A204-11)

著者

和文:	白取優大, ファリスアキラ, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Yuta Shiratori, Akira Faris, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年9月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第78回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

開催地

和文:	福岡
英文:	Fukuoka