Effect of ultra-thin SiOx insertion on a-Si:H (i) passivation layer deposited by facing target sputtering(5p-PB3-2)

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of ultra-thin SiOx insertion on a-Si:H (i) passivation layer deposited by facing target sputtering(5p-PB3-2)

著者

和文:	ファリスアキラビンモハマドズルキフリ, 白取優大, 中田和吉, 宮島晋介.
英文:	Akira Faris, Yuta Shiratori, Kazuyoshi Nakada, Shinsuke Miyajima.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年9月5日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第78回応用物理学会秋季学術講演会
英文:	The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

開催地

和文:	福岡
英文:	Fukuoka