室温レーザーアニールにより作製されたβ-Ga<sub>2</sub>O<sub>3</sub>エピタキシャル薄膜の配向性制御

論文・著書情報

タイトル

和文:	室温レーザーアニールにより作製されたβ-Ga₂O₃エピタキシャル薄膜の配向性制御
英文:	Orientation control of β-Ga₂O₃ epitaxial thin films formed by room-temperature laser annealing

著者

和文:	中村稀星, 内田啓貴, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
英文:	Kisho Nakamura, Hiroki Uchida, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2017年3月1日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	第64回応用物理学会春季学術講演会
英文:	The 64th JSAP Spring Meeting

開催地

和文:	神奈川県横浜市
英文:	Yokohama

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